題目：極紫外光刻光源技術(shù)與進展
時間：2025年7月2日 13:30-14:30
地點：機械與動力工程學(xué)院 振華會議室
邀請人：劉應(yīng)征 教授（葉輪機械研究所）
報告人簡介
丁程遠，中科院先導(dǎo)A光源專項總師。中科院上海光機所研究員，博導(dǎo)。國家級，中科院百人A類，上海市等人才項目。長期從事極紫外光源的研究，超過15年的極紫外光源的科學(xué)研究、產(chǎn)品開發(fā)、項目管理、工程實現(xiàn)和客戶服務(wù)經(jīng)驗。對極紫外光源的產(chǎn)生及在光刻，晶圓檢測，生物醫(yī)學(xué)成像中應(yīng)用感興趣。
報告摘要
極紫外（EUV）光刻機是量產(chǎn)7nm以下集成電路工藝節(jié)點的最關(guān)鍵設(shè)備。相對于DUV光刻機，EUV光刻光源是整機中最大的創(chuàng)新點和難點，集西方全產(chǎn)業(yè)鏈的努力，研發(fā)20余年，EUV光源才達到量產(chǎn)指標(biāo)，使半導(dǎo)體行業(yè)進入EUV時代。本報告通過EUV光源科學(xué)原理到工程實現(xiàn)以及國際與國內(nèi)歷史與現(xiàn)實技術(shù)發(fā)展的講解，帶聽眾理解EUV光源發(fā)展過程中的真實過程與難點所在。
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